Инженеры преодолели литографический предел в промышленном производстве микросхем

Схематичный процесс производства и данные микроскопии

Abramova et al./Nanoletters

Коллектив из Университета Райса в США создал из золота, кремния, титана и ряда других материалов провода толщиной менее десяти нанометров. Ученые использовали метод литографии с маскирующим мениском, ранее разработанный для синтеза графеновых нанолент. Работа опубликована в Nanoletters.

В промышленном производстве электронных компонентов минимальная толщина провода составляет около десяти нанометров. Более тонкие образцы можно получить при помощи специфичных методов вроде электронно-лучевой литографии, но такое производство очень плохо масштабируется. Авторы новой работы продемонстрировали синтез проводов с рекордной (для этого метода) толщиной 6,9 нанометров, причем их технология практически не требует переоборудования существующих линий производства.


Для синтеза нанопроводов ученые использовали свойство воды смачивать гидрофильные поверхности. Обычно оно мешает при производстве, так как образуется мениск, который может нарушить форму и размер изделия. В нынешней модификации мениск использовали в роли маски, которая защищала находящийся под ней материал.

Также авторы применили этот метод для синтеза сетки пересекающихся проводов. Они показали, что в ее составе могут быть провода как из одного, так и из разных материалов, при чем в рамках одного и того же технологического процесса.

Нашли опечатку? Выделите фрагмент и нажмите Ctrl+Enter.